| Identifikační kód |
RIV/68378271:_____/14:00436748 |
| Název v původním jazyce | Multifunkční držák substrátu pro plazmové depozice tenkých optických vrstev |
|---|
| Název v anglickém jazyce |
Multifunctional substrate holder for plasma depositions of optical thin films |
| Druh |
G - Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek) |
| Poddruh |
G/B - Funkční vzorek (Gfunk) |
| Jazyk |
cze - čeština |
| Obor - skupina |
B - Fyzika a matematika |
| Obor |
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech |
| Rok uplatnění |
2014 |
| Kód důvěrnosti údajů |
S - Úplné a pravdivé údaje o výsledku nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů. |
| Počet výskytů výsledku |
2 |
| Počet tvůrců celkem |
3 |
| Počet domácích tvůrců |
3 |
| Výčet všech uvedených jednotlivých tvůrců |
Petr Adámek (státní příslušnost: CZ - Česká republika, domácí tvůrce: A, vedidk: 2989034)
Martin Čada (státní příslušnost: CZ - Česká republika, domácí tvůrce: A, vedidk: 9254927)
Zdeněk Hubička (státní příslušnost: CZ - Česká republika, domácí tvůrce: A, vedidk: 2296268) |
| Popis výsledku v původním jazyce | V rámci řešení grantu TAČR byl vyvinut otáčivý nosič substrátu pro plazmovou depozici, který je externě vytápěný do teploty 400 °C a je možné na něj aplikovat RF předpětí do hodnot amplitudy 1000 V. |
|---|
| Popis výsledku v anglickém jazyce |
A rotating substrate holder was developed for plasmatic deposition system as an output of the project TACR. The substrate holder can be heated up to 400 oC and simultaneously biased by the RF voltage up to the amplitude value of 1000 V. |
| Klíčová slova oddělená středníkem |
sputtering; thin films; plasma; deposition; magnetron; reactive sputtering |
| Stránka www, na které se nachází výsledek |
- |
| Odkaz na údaje z výzkumu |
- |