| Identifikační kód |
RIV/68378271:_____/15:00455195 |
| Název v anglickém jazyce |
Crystal structure and magnetic properties of UO2/permalloy thin films |
| Druh |
J - Recenzovaný odborný článek (Jimp, Jsc a Jost) |
| Poddruh |
- |
| Jazyk |
eng - angličtina |
| Obor - skupina |
B - Fyzika a matematika |
| Obor |
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus |
| Rok uplatnění |
2015 |
| Kód důvěrnosti údajů |
S - Úplné a pravdivé údaje o výsledku nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů. |
| Počet výskytů výsledku |
3 |
| Počet tvůrců celkem |
6 |
| Počet domácích tvůrců |
1 |
| Výčet všech uvedených jednotlivých tvůrců |
Evgeniya Tereshina (státní příslušnost: CZ - Česká republika, domácí tvůrce: A, vedidk: 6470327)
Z. Bao (státní příslušnost: NL - Nizozemsko)
R. Caciuffo (státní příslušnost: DE - Spolková republika Německo)
S. Daniš (státní příslušnost: CZ - Česká republika)
L. Havela (státní příslušnost: CZ - Česká republika)
R. Springell (státní příslušnost: GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska) |
| Popis výsledku v anglickém jazyce |
The exchange bias effect was studied on antiferromagnetic-ferromagnetic UO2/permalloy (Ni80Fe20) thin films. Films with a fixed thickness of UO2 layer and variable thickness of the covering Ni80Fe20 layer have been grown by reactive sputter deposition. The X-ray diffraction study showed epitaxial growth of the UO2 layer on (100) CaF2 substrates and a polycrystalline permalloy layer on top of it. The samples exhibited perpendicular exchange bias with the maximum magnitude of 22 mT found in UO2/Ni80Fe20 with the thinnest permalloy of 177 A. |
| Klíčová slova oddělená středníkem |
exchange bias; permalloy; uranium dioxide |
| Stránka www, na které se nachází výsledek |
- |
| DOI výsledku |
10.1016/j.tsf.2015.05.014 |
| Odkaz na údaje z výzkumu |
- |